Le masque contient 51 % de Centella Asiatica, une plante utilisée depuis des centaines d’années dans la médecine traditionnelle asiatique pour favoriser la cicatrisation des plaies et apaiser l’inflammation.

Ingrédients clés

– L’extrait de Centella Asiatica – apaise et réhydrate la peau.
– L’extrait de racine de Paeonia Suffruticosa (Pivoine arbustive) – appréciée pour le principe actif qu’elle contient, la paeoniflorine, qui possède un effet antioxydant semblable à celui de la vitamine E.
– L’acide hyaluronique hydrolysé – favorise la réparation de la barrière cutanée sur l’épiderme, possède des propriétés de cicatrisation et maintient une surface cutanée hydratée et lisse.
Bon à savoir : La SKIN1004 Madagascar Centella Watergel Sheet Ampoule Mask fournit trois fois le taux d’hydratation standard, dans le but d’hydrater et de restaurer intensément la peau.

Conseils d’utilisation

Nettoyez et tonifiez votre peau.
Retirez le masque de l’emballage.
Dépliez délicatement et placez le tissu sur votre peau.
Laissez agir 10 à 20 minutes, retirer et tapoter l’ampoule restante sur votre peau.

Ingrédients

Centella extract (51%), purified water, dipropylene glycol, glycereth-26, glycerin, 1,2-hexanediol, betaine, butylene glycol, paeonia suffruticosa root extract, polyglyceryl-10 laurate, matricaria flower extract, glyceryl caprylate, carbomer ,, xanthan gum, arginine, ethyl hexyl glycerin, sodium hyaluronate, dextrin, cacao extract, tropanediol, coptis chinensis root extract, corn mint oil, sodium hyaluronate crosspolymer, hydrolyzed glycosaminoglycans, benzyl glycol, hydrolyzed hyaluronic acid, disodium hyaluronic acid, raspberry ED.